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VICI 气体纯化器的核心工作原理是通过特定的纯化介质与气体中的杂质发生物理吸附或化学反应,将杂质截留或转化为无害物质,从而得到高纯度气体。其设计会根据目标去除的杂质类型(如水分、氧气、碳氢化合物等)和气体种类(如载气、反应气),匹配针对性的纯化技术,确保杂质被精准、高效去除(通常可将杂质含量降至 ppb 级,即 10⁻⁹级别以下)。以下是其主流纯化技术的具体工作原理,按常见杂质类型分类说明:
一、针对 “水分(H₂O)" 的纯化原理:物理吸附
分子筛(Molecular Sieve):如 3Å、4Å 型分子筛,其晶体结构具有均匀的微孔(孔径约 0.3-0.4nm),仅允许水分子(直径约 0.28nm)进入孔道,而其他气体分子(如 N₂、He、H₂等,直径通常>0.3nm)无法进入,从而实现 “分子筛分" 式脱水。
优势:吸附容量大、脱水效率高,可将气体含水量降至**<1ppb**,且在常温下即可稳定工作,适合大多数载气(如 GC 载气 He、N₂)的脱水。
无水氯化钙 / 硫酸镁:部分入门级型号会使用这类干燥剂,通过自身的强吸水性(化学性质稳定,不与目标气体反应)吸附水分,但吸附容量和精度低于分子筛,更适合对水分要求稍低的场景。
工作过程:待纯化气体从入口进入纯化器后,首先流经分子筛填充层,水分子被分子筛微孔吸附固定,脱水后的气体则从出口流出;当吸附剂达到饱和后,部分可再生型号可通过 “加热吹扫"(如通入干燥惰性气体并升温至 200-300℃)将吸附的水分脱附,使吸附剂恢复活性,实现重复使用。
二、针对 “氧气(O₂)" 的纯化原理:化学吸附 / 催化反应
金属基化学吸附(如铜基、锆基吸附剂):
以铜基吸附剂为例,其主要成分为 “活性铜(Cu⁰或 Cu⁺)",在常温或低温(<100℃)下,氧气会与活性铜发生氧化反应:2Cu + O₂ → 2CuO,生成的 CuO 为固体,会附着在吸附剂表面,从而将氧气从气体中去除。
锆基吸附剂(如锆铝合金)则反应活性更高,可在更宽的温度范围内与 O₂反应生成 ZrO₂,且吸附容量大,能将氧气含量降至**<0.1ppb**,适合对氧气极敏感的场景(如半导体制造、超纯气体纯化)。
催化还原反应(针对含还原性气体的场景):
若待纯化气体本身含还原性成分(如 H₂),VICI 会在纯化器中设置 “催化剂层"(如钯催化剂),在常温下催化 O₂与 H₂发生反应:2H₂ + O₂ → 2H₂O,生成的水分再通过后续的分子筛脱水模块去除,实现 “氧气 + 水分" 的同步纯化。
优势:无需额外添加吸附剂,利用气体自身成分完成除氧,适合 H₂、NH₃等还原性气体的纯化。
三、针对 “碳氢化合物(CₙHₘ,如甲烷、乙烷)" 的纯化原理:催化氧化
催化氧化反应:纯化器内填充 “贵金属催化剂"(如铂 Pt、钯 Pd),在一定温度(通常 150-300℃,需加热模块辅助)下,催化剂会激活碳氢化合物与氧气的反应:
CₙHₘ + (n + m/4)O₂ → nCO₂ + (m/2)H₂O
(注:若气体中氧气含量不足,部分型号会内置 “微量氧气补充装置",确保反应)。
产物去除:反应生成的 CO₂和 H₂O,会流经后续的 “碱性吸附剂(如 NaOH、CaO)" 和 “分子筛":
碱性吸附剂通过化学反应(CO₂ + 2NaOH → Na₂CO₃ + H₂O)截留 CO₂;
分子筛则吸附生成的 H₂O,最终得到无碳氢化合物的纯气体。
该技术可将碳氢化合物含量降至**<0.1ppb**, GC-MS 痕量分析的需求。
四、针对 “酸性气体(如 CO₂、HCl、SO₂)" 的纯化原理:化学吸附
常用吸附剂:氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钙(Ca (OH)₂)、活性氧化铝(Al₂O₃,兼具吸附与中和作用);
反应示例:
去除 CO₂:CO₂ + 2NaOH → Na₂CO₃ + H₂O(生成的 H₂O 由后续分子筛去除);
去除 HCl:HCl + NaOH → NaCl + H₂O(生成的 NaCl 为固体,留在吸附剂中);
优势:反应迅速、选择性高,可将酸性气体杂质降至**<1ppb**,适合生物样品分析、材料合成等酸碱敏感场景。
预处理(可选):若气体中含大量粉尘或液态杂质,先经过 “过滤模块"(如 0.22μm 滤芯)去除,避免堵塞后续纯化介质;
定向除杂:根据目标杂质顺序,依次流经对应纯化模块(如:先除水→再除氧→最后除碳氢化合物 / 酸性气体);
稳压输出:纯化后的高纯度气体流经 “压力稳定模块"(如稳压阀),确保出口气体压力稳定(避免压力波动影响下游设备,如 GC 检测器);
状态监测(型号):部分型号内置 “杂质传感器"(如水分传感器、氧气传感器)和显示屏,实时监测出口气体纯度,当纯化介质接近饱和时发出 “更换 / 再生提示"
针对不同气体(如 He、N₂、H₂、Ar),选择不与其反应的纯化介质(如纯化 H₂时不使用氧化型吸附剂,避免 H₂被消耗);
针对不同杂质组合,灵活调整模块顺序(如分析用载气常采用 “除水→除氧→除碳氢" 的顺序,而工业保护气可能优先除氧→除水);
部分型号支持 “再生功能"(通过加热、吹扫等方式恢复吸附剂活性),降低使用成本,同时保证长期纯化稳定性。